目前市场上，真空断路器的发展变得越来越快，那么是什么因素造成了真空断路器迅速发展的原因呢？其一是真空灭弧室技术的进步；二是操动机构技术的进步。真空灭弧室是真空断路器的心脏。真空灭弧室的进步主要表现在如触头材料从CuBi转变成CuCr，提高了开端能力，降低了截流值，同时磁场从横磁场转向纵磁场，减少了触头的烧损。在工艺上，一次排封工艺的采用，使得提高了灭弧室性能及可靠性。
  操动机构被称之为真空断路器的神经中枢，原先用电磁机构，后来出现了弹簧机构，又出现了永磁机构。弹簧机构结构复杂，零件数多（多达200个），加工精度要求高，且弹簧机构的出力特性与真空断路器的负载特性不相匹配，要在凸轮轮廓曲线和连杆结构上进行合理设计。永磁机构的机械结构特别简单，零部件比任何其他机构都要少，运动部件可以减少至一个，因而机械可靠性特别高，而且永磁机构的出力特性能与真空断路器的负载特性很好的匹配。永磁机构用永磁锁扣，电容器（或直流屏供电）储能，用电子控制。永磁机构特别适用于频繁操作，如可达6万～15万次。
  真空断路器的发展势不可挡，其市场的前景也是非常乐观的，要保持真空断路器的发展趋势，技术的创新是不能够停止的。